在AGC等离子技术解决方案部门，我们通过制造生产下一代高性能组件所需的先进设备，为光学行业注入强大动力。我们的创新重点在于将专有的等离子技术集成到专为大规模生产设计的稳健高通量系统中。
针对光学应用，我们的核心创新包括PlasmaMAX PECVD源和我们独特的iOSMB技术。
我们的PlasmaMAX PECVD源专为以极高速率沉积高质量光学涂层（如氧化硅SiOx）而设计。这项技术实现了异常快速且均匀的涂层，对于工业规模生产抗反射膜（AR）及其他复杂光学涂层系统至关重要。
为了实现最高精度的涂层，我们的磁控溅射系统配备了iOSMB（在线可调磁棒）技术。这一专有特性允许在涂层过程中动态实时调整磁场，从而在整个基板上提供无与伦比的涂层厚度和均匀性控制，确保每个组件都符合最严格的光学规格。
这些尖端技术已集成到我们的垂直在线真空镀膜机中，这是光学组件大规模生产的终极解决方案。这些全自动化设备设计用于无缝地将基板通过不同的沉积阶段，以最高精度、一致性和吞吐率施加复杂的多层涂层。

本平台所刊载的资讯来源于外部公开信息及合作方提供，由“中欧世界展会网”进行翻译整理，旨在为用户提供便捷的展会信息参考。我们致力于打造一个汇集全球展会时间与地点信息的服务平台，并可提供展位预订、参观协助、设计搭建等第三方服务对接。

相关资讯仅供参考，不构成任何确定性承诺或要约，亦不对其准确性、完整性承担法律责任。用户基于本平台信息所做的任何决策与行为，均需自行核实并承担相应风险。

如需进一步服务或确认信息，敬请垂询：400-837-8606（24小时客服）。