用于在具有平坦和弯曲表面的大型基板上沉积光学干涉层的溅射系统。
系统描述
FHR.Star.600-EOSS®是制造高精度光学干涉层的卓越解决方案，
满足对膜层厚度均匀性和可重复性的最高要求。其溅射向上技术
确保了无瑕疵的膜层质量，而旋转台设计则显著提高了吞吐量。
适用于直径达320毫米或尺寸为370 x 320毫米的平坦和弯曲基板。
主要优势
• 通过双极溅射靶材配置提升膜层质量，实现无缺陷薄膜
• 工艺区域间高效活性气体分离
• 旋转靶材确保最高材料利用率并减少磨损漂移
• 原位磁场调控
• 全自动工艺控制
• 配方程序生成器，实现最大工艺灵活性
薄膜沉积应用领域
• 智能玻璃（如AR）
• 滤光片与反射镜（带通、陷波、边缘滤光片、二向色滤光片、偏振片等）
• 显示技术
• 透镜
• 激光反射镜
• VR设备组件

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